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国林科技:臭氧被电子工业广泛用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用
来源: 证券之星      时间:2023-09-07 17:54:00


(相关资料图)

国林科技(300786)09月07日在投资者关系平台上答复了投资者关心的问题。

投资者:请问公司有光刻胶概念吗?具体是什么?

国林科技董秘:尊敬的投资者,您好。臭氧被电子工业广泛用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用。感谢您的关注。

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